[హువాటే బెనిఫిషియేషన్ ఎన్‌సైక్లోపీడియా] “క్వార్ట్జ్ ఇసుక” యొక్క వర్గీకరణ, అనువర్తనం మరియు అవసరాలను ఒకేసారి స్పష్టం చేయండి

క్వార్ట్జ్ ఇసుక అనేది గాజు, కాస్టింగ్, సిరామిక్స్ మరియు రిఫ్రాక్టరీ పదార్థాలు, లోహశాస్త్రం, నిర్మాణం, రసాయన, ప్లాస్టిక్, రబ్బరు, అబ్రేసివ్ మరియు ఇతర పరిశ్రమలతో సహా విస్తృత శ్రేణి ఉపయోగాలు కలిగిన ఒక ముఖ్యమైన పారిశ్రామిక ఖనిజ ముడి పదార్థం. అంతేకాకుండా, ఉన్నత శ్రేణి క్వార్ట్జ్ ఇసుక ఎలక్ట్రానిక్ సమాచారం, ఆప్టికల్ ఫైబర్, ఫోటోవోల్టాయిక్ మరియు ఇతర పరిశ్రమలలో, అలాగే రక్షణ మరియు సైనిక పరిశ్రమ, ఏరోస్పేస్ మరియు ఇతర రంగాలలో కూడా ముఖ్యమైన పాత్ర పోషిస్తుంది. చిన్న ఇసుక రేణువులు పెద్ద పరిశ్రమలకు మద్దతు ఇస్తాయని చెప్పవచ్చు. (వర్టికల్ రింగ్ హై గ్రేడియంట్ మాగ్నెటిక్ సెపరేటర్)

ప్రస్తుతం, మీకు ఏ రకాల క్వార్ట్జ్ ఇసుక గురించి తెలుసు?

01 వివిధ స్పెసిఫికేషన్ల క్వార్ట్జ్ ఇసుక
క్వార్ట్జ్ ఇసుక యొక్క సాధారణ స్పెసిఫికేషన్లలో ఇవి ఉంటాయి: 0.5-1మిమీ, 1-2మిమీ, 2-4మిమీ, 4-8మిమీ, 8-16మిమీ, 16-32మిమీ, 10-20, 20-40, 40-80, 80-120, 100-200, 200 మరియు 325.
క్వార్ట్జ్ ఇసుక యొక్క మెష్ సంఖ్య వాస్తవానికి క్వార్ట్జ్ ఇసుక యొక్క రేణువుల పరిమాణాన్ని లేదా సూక్ష్మతను సూచిస్తుంది. సాధారణంగా, ఇది 1 అంగుళం X 1 అంగుళం వైశాల్యం గల జల్లెడను సూచిస్తుంది. ఆ జల్లెడ గుండా వెళ్ళగలిగే మెష్ రంధ్రాల సంఖ్యను మెష్ సంఖ్యగా నిర్వచిస్తారు. క్వార్ట్జ్ ఇసుక యొక్క మెష్ సంఖ్య ఎంత ఎక్కువగా ఉంటే, దాని రేణువుల పరిమాణం అంత సూక్ష్మంగా ఉంటుంది. మెష్ సంఖ్య ఎంత తక్కువగా ఉంటే, దాని రేణువుల పరిమాణం అంత పెద్దగా ఉంటుంది.
02 విభిన్న నాణ్యత గల క్వార్ట్జ్ ఇసుక

సాధారణంగా చెప్పాలంటే, క్వార్ట్జ్ ఇసుకలో కనీసం 98.5% సిలికాన్ డయాక్సైడ్ ఉంటేనే దానిని క్వార్ట్జ్ ఇసుక అని పిలుస్తారు, అయితే 98.5% కంటే తక్కువ శాతం ఉన్న దానిని సాధారణంగా సిలికా అని పిలుస్తారు.
అన్హుయ్ ప్రావిన్స్ యొక్క స్థానిక ప్రమాణం DB34/T1056-2009 “క్వార్ట్జ్ ఇసుక” అనేది, క్వార్ట్జ్ రాయిని గ్రైండింగ్ చేయడం ద్వారా తయారు చేయబడిన పారిశ్రామిక క్వార్ట్జ్ ఇసుకకు (కాస్టింగ్ సిలికా ఇసుక మినహా) వర్తిస్తుంది.

సంవత్సరాల అభివృద్ధి తర్వాత, ప్రస్తుతం పరిశ్రమలో క్వార్ట్జ్ ఇసుకను సాధారణ క్వార్ట్జ్ ఇసుక, శుద్ధి చేసిన క్వార్ట్జ్ ఇసుక, అధిక-స్వచ్ఛత గల క్వార్ట్జ్ ఇసుక, కరిగించిన క్వార్ట్జ్ ఇసుక మరియు సిలికా పౌడర్‌గా విభజిస్తున్నారు.

సాధారణ క్వార్ట్జ్ ఇసుక
సాధారణంగా, ఇది సహజ క్వార్ట్జ్ ఖనిజాన్ని నలగగొట్టి, కడిగి, ఎండబెట్టి, ద్వితీయ జల్లించిన తర్వాత తయారుచేసే ఒక నీటి శుద్ధి ఫిల్టర్ పదార్థం; దీనిలో SiO2 ≥ 90-99%, Fe2O3 ≤ 0.06-0.02% ఉంటాయి. ఈ ఫిల్టర్ పదార్థం కోణ సవరణ అవసరం లేకపోవడం, అధిక సాంద్రత, అధిక యాంత్రిక బలం, మరియు కాలుష్య కారకాలను మోసే సామర్థ్యం కలిగి, సుదీర్ఘ సేవా జీవితాన్ని కలిగి ఉండటం వంటి లక్షణాలను కలిగి ఉంటుంది. ఇది రసాయన నీటి శుద్ధికి ఉపయోగపడే ఒక పదార్థం. దీనిని లోహశాస్త్రం, గ్రాఫైట్ సిలికాన్ కార్బైడ్, గాజు మరియు గాజు ఉత్పత్తులు, ఎనామెల్, కాస్ట్ స్టీల్, కాస్టిక్ సోడా, రసాయన, జెట్ నాయిస్ మరియు ఇతర పరిశ్రమలలో ఉపయోగించవచ్చు.

శుద్ధి చేసిన క్వార్ట్జ్ ఇసుక
SiO2 ≥ 99-99.5%, Fe2O3 ≤ 0.005% కలిగిన, జాగ్రత్తగా ఎంపిక చేసి, శుద్ధి చేసిన అధిక-నాణ్యత గల సహజ క్వార్ట్జ్ ఇసుకతో దీనిని తయారు చేస్తారు. గాజు, రిఫ్రాక్టరీ పదార్థాలు, ఫెర్రోసిలికాన్ కరిగించడం, మెటలర్జికల్ ఫ్లక్స్, సిరామిక్స్, రాపిడి పదార్థాలు, కాస్టింగ్ మోల్డింగ్ క్వార్ట్జ్ ఇసుక మొదలైన వాటి తయారీ ద్వారా ఆమ్ల-నిరోధక కాంక్రీట్ మరియు మోర్టార్‌ను ఉత్పత్తి చేయడం దీని ప్రధాన ఉద్దేశ్యం. కొన్నిసార్లు పరిశ్రమలో శుద్ధి చేసిన క్వార్ట్జ్ ఇసుకను యాసిడ్ వాష్డ్ క్వార్ట్జ్ ఇసుక అని కూడా పిలుస్తారు.

గాజు ఇసుక
అధిక-నాణ్యత గల క్వార్ట్జ్ ఇసుకను, ఉన్నత శ్రేణి క్వార్ట్జ్ రాయి నుండి పలు ప్రక్రియల ద్వారా తయారు చేస్తారు. ప్రస్తుతం, ఈ పరిశ్రమ అధిక-నాణ్యత గల క్వార్ట్జ్ ఇసుక కోసం ఒక ఏకీకృత పారిశ్రామిక ప్రమాణాన్ని ఏర్పాటు చేయలేదు మరియు దాని నిర్వచనం కూడా అంత స్పష్టంగా లేదు. కానీ సాధారణంగా చెప్పాలంటే, అధిక-నాణ్యత గల క్వార్ట్జ్ ఇసుక అంటే SiO2 శాతం 99.95% లేదా అంతకంటే ఎక్కువ, Fe2O3 శాతం 0.0001% కంటే తక్కువ, మరియు Al2O3 శాతం 0.01% కంటే తక్కువ ఉన్న క్వార్ట్జ్ ఇసుక అని అర్థం. అధిక-నాణ్యత గల క్వార్ట్జ్ ఇసుకను విద్యుత్ దీపపు వనరులు, ఆప్టికల్ ఫైబర్ కమ్యూనికేషన్లు, సౌర ఘటాలు, సెమీకండక్టర్ ఇంటిగ్రేటెడ్ సర్క్యూట్లు, ఖచ్చితమైన ఆప్టికల్ పరికరాలు, వైద్య పరికరాలు, ఏరోస్పేస్ మరియు ఇతర హై-టెక్ పరిశ్రమలలో విస్తృతంగా ఉపయోగిస్తారు.

మైక్రోసిలికా
సిలికాన్ మైక్రో-పౌడర్ అనేది స్ఫటికాకార క్వార్ట్జ్, ఫ్యూజ్డ్ క్వార్ట్జ్ మరియు ఇతర ముడి పదార్థాల నుండి గ్రైండింగ్, ప్రెసిషన్ గ్రేడింగ్, మలినాలను తొలగించడం, అధిక-ఉష్ణోగ్రత స్ఫెరోడైజేషన్ మరియు ఇతర ప్రక్రియల ద్వారా తయారు చేయబడిన విషరహిత, వాసన లేని మరియు కాలుష్యరహిత సిలికాన్ డయాక్సైడ్ పొడి. ఇది అధిక ఉష్ణ నిరోధకత, అధిక ఇన్సులేషన్, తక్కువ రేఖీయ వ్యాకోచ గుణకం మరియు మంచి ఉష్ణ వాహకత వంటి అద్భుతమైన లక్షణాలను కలిగిన ఒక అకర్బన అలోహ పదార్థం.

కరిగిన క్వార్ట్జ్ ఇసుక
కరిగిన క్వార్ట్జ్ ఇసుక అనేది SiO2 యొక్క అస్ఫటిక (గాజు స్థితి). ఇది పారగమ్యత కలిగిన ఒక రకమైన గాజు, మరియు దీని పరమాణు నిర్మాణం పొడవుగా మరియు క్రమరహితంగా ఉంటుంది. త్రిమితీయ నిర్మాణం యొక్క క్రాస్ లింకింగ్ ద్వారా ఇది తన ఉష్ణోగ్రత మరియు తక్కువ ఉష్ణ వ్యాకోచ గుణకాన్ని మెరుగుపరుచుకుంటుంది. ఎంపిక చేయబడిన అధిక-నాణ్యత గల సిలికా ముడి పదార్థం SiO2>99%ను, 1695-1720 ℃ ద్రవీభవన ఉష్ణోగ్రత వద్ద ఎలక్ట్రిక్ ఆర్క్ ఫర్నేస్ లేదా రెసిస్టెన్స్ ఫర్నేస్‌లో కరిగిస్తారు. 1900 ℃ వద్ద SiO2 ద్రవం యొక్క అధిక స్నిగ్ధత (ఇది 10⁷ Pa·s) కారణంగా, దీనిని కాస్టింగ్ ద్వారా ఆకృతి చేయలేరు. చల్లారిన తర్వాత, గాజు పదార్థాన్ని ప్రాసెస్ చేసి, అయస్కాంత వేర్పాటు, మలినాల తొలగింపు మరియు జల్లించడం ద్వారా వివిధ స్పెసిఫికేషన్లు మరియు ఉపయోగాలు గల రేణువుల రూపంలోని కరిగిన క్వార్ట్జ్ ఇసుకను ఉత్పత్తి చేస్తారు.
ఫ్యూజ్డ్ క్వార్ట్జ్ ఇసుక మంచి ఉష్ణ స్థిరత్వం, అధిక స్వచ్ఛత, స్థిరమైన రసాయన లక్షణాలు, ఏకరీతి కణ పంపిణీ మరియు 0కి దగ్గరగా ఉండే ఉష్ణ వ్యాకోచ రేటు వంటి ప్రయోజనాలను కలిగి ఉంది. దీనిని పూతలు మరియు కోటింగ్‌ల వంటి రసాయన పరిశ్రమలలో ఫిల్లర్‌గా ఉపయోగించవచ్చు మరియు ఇది ఎపాక్సీ రెసిన్ కాస్టింగ్, ఎలక్ట్రానిక్ సీలింగ్ మెటీరియల్స్, కాస్టింగ్ మెటీరియల్స్, రిఫ్రాక్టరీ మెటీరియల్స్, సిరామిక్ గ్లాస్ మరియు ఇతర పరిశ్రమలకు ప్రధాన ముడి పదార్థంగా కూడా ఉంది.

03 వివిధ ప్రయోజనాల కోసం క్వార్ట్జ్ ఇసుక

ఫోటోవోల్టాయిక్ గ్లాస్ కోసం తక్కువ ఇనుము గల ఇసుక (మాగ్నెటిక్ డ్రమ్ మాగ్నెటిక్ సెపరేటర్)
ఫోటోవోల్టాయిక్ మాడ్యూల్స్ యొక్క ప్యాకేజింగ్ ప్యానెల్‌గా సాధారణంగా ఫోటోవోల్టాయిక్ గ్లాస్‌ను ఉపయోగిస్తారు, ఇది బాహ్య వాతావరణంతో ప్రత్యక్ష సంబంధంలో ఉంటుంది. దీని వాతావరణ నిరోధకత, బలం, కాంతి ప్రసరణ మరియు ఇతర సూచికలు ఫోటోవోల్టాయిక్ మాడ్యూల్స్ యొక్క జీవితకాలం మరియు దీర్ఘకాలిక విద్యుత్ ఉత్పత్తి సామర్థ్యంలో కీలక పాత్ర పోషిస్తాయి. క్వార్ట్జ్ ఇసుకలోని ఇనుము అయాన్ సులభంగా రంగు మారుతుంది. అసలు గ్లాస్ యొక్క అధిక సౌర ప్రసరణను నిర్ధారించడానికి, ఫోటోవోల్టాయిక్ గ్లాస్‌లోని ఇనుము శాతం సాధారణ గ్లాస్ కంటే తక్కువగా ఉండాలి మరియు అధిక సిలికాన్ స్వచ్ఛత, తక్కువ మలినాలు కలిగిన తక్కువ-ఇనుము క్వార్ట్జ్ ఇసుకను తప్పనిసరిగా ఉపయోగించాలి.

ఫోటోవోల్టాయిక్ కోసం అధిక స్వచ్ఛత గల క్వార్ట్జ్ ఇసుక
సౌరశక్తి వినియోగంలో సౌర ఫోటోవోల్టాయిక్ విద్యుత్ ఉత్పత్తి ఒక ప్రాధాన్య దిశగా మారింది, మరియు ఫోటోవోల్టాయిక్ పరిశ్రమలో అధిక స్వచ్ఛత గల క్వార్ట్జ్ ఇసుకకు ఒక ముఖ్యమైన అనువర్తనం ఉంది. ఫోటోవోల్టాయిక్ పరిశ్రమలో ఉపయోగించే క్వార్ట్జ్ పరికరాలలో సౌర సిలికాన్ ఇంగోట్‌ల కోసం క్వార్ట్జ్ సిరామిక్ క్రూసిబుల్స్, అలాగే ఫోటోవోల్టాయిక్ తయారీ ప్రక్రియ యొక్క వ్యాపనం మరియు ఆక్సీకరణ, మరియు PECVD ప్రక్రియలో ఉపయోగించే క్వార్ట్జ్ బోట్లు, క్వార్ట్జ్ ఫర్నేస్ ట్యూబ్‌లు మరియు బోట్ బ్రాకెట్లు ఉన్నాయి. వీటిలో, క్వార్ట్జ్ క్రూసిబుల్స్‌ను పాలీక్రిస్టలైన్ సిలికాన్‌ను పెంచడానికి చతురస్రాకార క్వార్ట్జ్ క్రూసిబుల్స్‌గా మరియు మోనోక్రిస్టలైన్ సిలికాన్‌ను పెంచడానికి గుండ్రని క్వార్ట్జ్ క్రూసిబుల్స్‌గా విభజించారు. ఇవి సిలికాన్ ఇంగోట్‌ల పెరుగుదల సమయంలో వినియోగించబడే వస్తువులు మరియు ఫోటోవోల్టాయిక్ పరిశ్రమలో అత్యధిక డిమాండ్ ఉన్న క్వార్ట్జ్ పరికరాలు. క్వార్ట్జ్ క్రూసిబుల్ యొక్క ప్రధాన ముడి పదార్థం అధిక స్వచ్ఛత గల క్వార్ట్జ్ ఇసుక.

ప్లేట్ ఇసుక
క్వార్ట్జ్ రాయికి అరుగుదల నిరోధకత, గీతల నిరోధకత, ఉష్ణ నిరోధకత, తుప్పు నిరోధకత మరియు మన్నిక వంటి లక్షణాలు ఉన్నాయి. దీనికి బలమైన స్థితిస్థాపకత ఉంది మరియు ఇది విస్తృతంగా ఉపయోగించబడుతుంది. కృత్రిమ నిర్మాణ సామగ్రి అభివృద్ధి చరిత్రలో ఇది ఒక మైలురాయి ఉత్పత్తి. ఇది క్రమంగా గృహాలంకరణ మార్కెట్‌లో కొత్తగా ప్రాచుర్యం పొంది, వినియోగదారులలో ప్రజాదరణ పొందింది. సాధారణంగా, 95%~99% క్వార్ట్జ్ ఇసుక లేదా క్వార్ట్జ్ పొడిని రెసిన్, వర్ణద్రవ్యం మరియు ఇతర సంకలితాలతో బంధించి గట్టిపరుస్తారు, కాబట్టి క్వార్ట్జ్ ఇసుక లేదా క్వార్ట్జ్ పొడి నాణ్యత కృత్రిమ క్వార్ట్జ్ రాయి పలక పనితీరును కొంతవరకు నిర్ధారిస్తుంది.
క్వార్ట్జ్ ప్లేట్ పరిశ్రమలో ఉపయోగించే క్వార్ట్జ్ ఇసుక పొడిని సాధారణంగా అధిక-నాణ్యత గల క్వార్ట్జ్ సిర మరియు క్వార్ట్జైట్ ఖనిజం నుండి నలగగొట్టడం, జల్లించడం, అయస్కాంత వేరుచేయడం మరియు ఇతర ప్రక్రియల ద్వారా పొందుతారు. ముడి పదార్థాల నాణ్యత క్వార్ట్జ్ నాణ్యతను నేరుగా ప్రభావితం చేస్తుంది. సాధారణంగా చెప్పాలంటే, క్వార్ట్జ్ రాతి పలక కోసం ఉపయోగించే క్వార్ట్జ్‌ను సన్నని క్వార్ట్జ్ ఇసుక పొడి (5-100 మెష్, అగ్రిగేట్‌గా ఉపయోగిస్తారు, ఈ అగ్రిగేట్‌లో సాధారణంగా ≥ 98% సిలికాన్ శాతం ఉండాలి) మరియు ముతక క్వార్ట్జ్ ఇసుక (320-2500 మెష్, పూరకం మరియు బలోపేతం కోసం ఉపయోగిస్తారు)గా విభజిస్తారు. దీనికి గట్టిదనం, రంగు, మలినాలు, తేమ, తెల్లదనం మొదలైన వాటికి సంబంధించి నిర్దిష్ట అవసరాలు ఉంటాయి.

ఫౌండ్రీ ఇసుక
క్వార్ట్జ్‌కు అధిక అగ్ని నిరోధకత మరియు కాఠిన్యం ఉండటం, అలాగే దాని అద్భుతమైన సాంకేతిక పనితీరు కాస్టింగ్ ఉత్పత్తి యొక్క వివిధ ప్రాథమిక అవసరాలను తీర్చగలగడం వల్ల, దీనిని సాంప్రదాయ మట్టి ఇసుక అచ్చుపోతకే కాకుండా, రెసిన్ ఇసుక మరియు పూత ఇసుక వంటి అధునాతన అచ్చుపోత మరియు కోర్ తయారీ ప్రక్రియలకు కూడా ఉపయోగించవచ్చు. అందువల్ల, కాస్టింగ్ ఉత్పత్తిలో క్వార్ట్జ్ ఇసుకను విస్తృతంగా ఉపయోగిస్తారు.
నీటితో కడిగిన ఇసుకసహజ సిలికా ఇసుకను కడిగి, గ్రేడ్ చేసిన తర్వాత కాస్టింగ్ కోసం ఉపయోగించే ముడి ఇసుక ఇది.
ఇసుకను రుద్దడం: కాస్టింగ్ కోసం ఉపయోగించే ఒక రకమైన ముడి ఇసుక. ఈ సహజ సిలికా ఇసుకను రుద్ది, కడిగి, గ్రేడ్ చేసి, ఎండబెట్టారు, మరియు దీనిలో మట్టి శాతం 0.5% కంటే తక్కువగా ఉంటుంది.
పొడి ఇసుకశుభ్రమైన లోతైన భూగర్భజలాన్ని నీటి వనరుగా ఉపయోగించి, మూడుసార్లు మట్టిని తొలగించి, ఆరుసార్లు రుద్దిన తర్వాత, 300 ℃ – 450 ℃ వద్ద ఎండబెట్టడం ద్వారా తక్కువ నీటి శాతం మరియు తక్కువ మలినాలు కలిగిన పొడి ఇసుక ఉత్పత్తి అవుతుంది. దీనిని ప్రధానంగా అధిక-శ్రేణి కోటెడ్ ఇసుకను ఉత్పత్తి చేయడానికి, అలాగే రసాయన, కోటింగ్, గ్రైండింగ్, ఎలక్ట్రానిక్స్ మరియు ఇతర పరిశ్రమలలో ఉపయోగిస్తారు.
పూత పూసిన ఇసుక: స్క్రబ్ ఇసుక ఉపరితలంపై ఫినాలిక్ రెసిన్‌తో ఒక రెసిన్ ఫిల్మ్ పొరను పూతగా వేస్తారు.
కాస్టింగ్ కోసం ఉపయోగించే సిలికా ఇసుక 97.5%~99.6% (ప్లస్ లేదా మైనస్ 0.5%), Fe2O3<1% కలిగి ఉంటుంది. ఈ ఇసుక నునుపుగా మరియు శుభ్రంగా ఉంటుంది, దీనిలో పూడిక శాతం<0.2~0.3%, కోణీయ గుణకం<1.35~1.47, మరియు నీటి శాతం<6% ఉంటాయి.

ఇతర ప్రయోజనాల కోసం క్వార్ట్జ్ ఇసుక
సిరామిక్ రంగం: సిరామిక్స్ ఉత్పత్తిలో ఉపయోగించే క్వార్ట్జ్ ఇసుకలో SiO2 90% కంటే ఎక్కువగా, Fe2O3 ∈ 0.06~0.02% ఉంటుంది మరియు దీని అగ్ని నిరోధకత 1750 ℃ ​​వరకు ఉంటుంది. కణ పరిమాణం 1~0.005mm పరిధిలో ఉంటుంది.
రిఫ్రాక్టరీ పదార్థాలు: SiO2 ≥ 97.5%, Al2O3 ∈ 0.7~0.3%, Fe2O3 ∈ 0.4~0.1%, H2O ≤ 0.5%, స్థూల సాంద్రత 1.9~2.1g/m3, లీనియర్ స్థూల సాంద్రత 1.75~1.8g/m3, కణ పరిమాణం 5.1~0.021mm.
లోహశాస్త్ర రంగం:
① రాపిడి ఇసుక: ఈ ఇసుక మంచి గుండ్రదనాన్ని కలిగి ఉంటుంది, అంచులు మరియు మూలలు ఉండవు, కణ పరిమాణం 0.8~1.5mm, SiO2 ＞ 98%, Al2O3 ＜ 0.72%, Fe2O3 ＜ 0.18%.
② సాండ్ బ్లాస్టింగ్: రసాయన పరిశ్రమలో తుప్పును తొలగించడానికి తరచుగా సాండ్ బ్లాస్టింగ్ ఉపయోగిస్తారు. SiO2 ＞ 99.6%, Al2O3 ＜ 0.18%, Fe2O3 ＜ 0.02%, కణ పరిమాణం 50~70 మెష్, గోళాకార కణ ఆకారం, మోహ్స్ కాఠిన్యం 7.
రాపిడి పదార్థాల రంగం: రాపిడి పదార్థంగా ఉపయోగించే క్వార్ట్జ్ ఇసుక యొక్క నాణ్యతా అవసరాలు: SiO2 ＞ 98%, Al2O3 ＜ 0.94%, Fe2O3 ＜ 0.24%, CaO ＜ 0.26%, మరియు కణ పరిమాణం 0.5~0.8mm.